针对荷兰ASML公司推迟供应EUV光刻机的传闻，中芯国际刚刚也发表了声明，强调“EUV(极紫外光)还在纸面阶段”，目前公司一切运行正常。

　　根据之前的报道，2018年4月份中芯国际向ASML公司订购了一台EUV光刻机，虽然没有公布具体情况，但是EUV光刻机售价通常在1.2亿欧元，价值将近10亿人民币，是半导体制造过程中最核心也是最耗费成本的装备。

　　按照进度来看，中芯国际应该在今年底收到这台光刻机，明年完成安装、调试，主要用来研究7nm及以下工艺，并不是用于大规模量产的，一两年内还达不到这个程度。

　　对于ASML公司推迟供应EUV光刻机，中芯国际方面下午对媒体表示，“极紫外光(EUV)还在纸面工作阶段，未进行相关活动。公司先进工艺研发进展顺利。目前，研发与生产的连结一切正常。客户与设备导入正常运作。”

　　根据中芯国际Q2季度财报上发布的消息，14nm已经进入客户风险量产阶段，目前流片数量10多个，今年秋季会正式量产，年底贡献有意义的营收，不过大规模量产还要到2021年。

　　14nm之后还有改进型的12nm FinFET工艺，根据中芯国际之前介绍，该工艺相比14nm晶体管尺寸进一步缩微，功耗降低20%、性能提升10%，错误率降低20%，也已经进入了客户导入阶段，进展顺利，预计年底会有多个芯片流片验证。

　　再往后，中芯国际表示还会有第二代FinFET工艺追赶先进水平，预计2020年底会有试验产能，不仅是有N+1，还会有更先进一代的N+2节点。不过N+1、N+2具体的工艺水平并没有披露，前者很有可能就是研发中的7nm工艺。