10月25日，第七届国际先进光刻技术研讨会在我市开幕，来自国内外的数百名行业大咖、著名企业家、专家学者等齐聚一堂，共商发展大计，共谋美好未来。

　　本届研讨会由中国集成电路创新联盟、中国光学学会共同主办，中国科学院微电子研究所、丽水经济技术开发区管理委员会（浙江丽水特色半导体“万亩千亿”新产业平台）联合承办，浙江富浙资本管理有限公司、广东省大湾区集成电路与系统应用研究院、南京诚芯集成电路技术研究院协办。

　　近年来，集成电路产业已经成为世界各国越来越重视的战略性产业，尤其在我国，集成电路产业受到了前所未有的关注，并在政策和资本的推动下获得了蓬勃发展。基于这样的形势，国际先进光刻技术研讨会应运而生。

　　国际先进光刻技术研讨会为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台，参会者可以就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题分享各自的研究成果，探讨图形化解决方案，研讨即将面临的技术挑战。

　　国际先进光刻技术研讨会已连续举办六届，今年在我市举办第七届。近年来，丽水经开区大力实施“双招双引”战略性先导工程，以超常规的力度培育特色半导体、精密制造、健康医药、时尚产业、数字经济五大产业，抢抓国家集成电路产业发展窗口机遇，创新“基金招商、产业链招商、以商招商”等方式，短短四年“无中生有”培育形成特色半导体产业集群，成功纳入浙江省促进集成电路发展规划，丽水特色半导体产业平台列入浙江省“万亩千亿”新产业平台，打造了以半导体材料为重点的产业集聚区，形成了“一园一链两基地”的发展格局。

　　截至目前，丽水经开区累计落地半导体产业项目33个，总投资近600亿元，形成以“功率器件半导体生产+超薄背道代工”为主干，以“硅晶圆材料+特种材料”为基础，延伸至半导体设备、芯片设计、封装测试全产业链，形成紧密协同的集聚发展态势和开放包容富有活力的产业链生态，业内称之为“Smart-IDM”丽水模式；计划到2030年，引进100家以上半导体企业，实现产值1000亿元以上。

　　研讨会现场，来自先进光刻及相关技术领域的国内外资深专家和学者分享了当前光刻技术发展现状、研发成果以及未来发展趋势等，为助推我国集成电路产业高质量发展指点迷津，也为我市特色半导体产业跨越式高质量发展提供更为广阔的发展思路，推动产业实现优化提升。