8月2日，国家02科技重大专项之“28nm节点浸没式光刻机产品研发”的核心部件之一——“浸液系统产品研制与能力建设”签约入驻青山湖科技城。

　　背景介绍：国家02 科技重大专项，即：“极大规模集成电路制造技术及成套工艺”，是《国家中长期科学和技术发展规划纲要(2006-2020年)》确定的16个重大科技专项之一，“浸液系统产品研制与能力建设”项目是我省在02 科技重大专项光刻机研发任务中承担的体量最大、技术最尖端、展示度最强的研发项目，同时也是青山湖科技城继01重大专项项目（即“核心电子器件、高端通用芯片及基础软件产品”，在国家16个科技重大专项中排序第一）相关的中电海康磁旋存储芯片之外，承接的第二个国家科技重大专项相关项目。

　　什么是光刻机？高端光刻机是集成电路装备中技术难度最高的关键设备，因此也被称为人类技术发展的制高点和制造工业“皇冠上的明珠”，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML，日本Nikon和日本Canon三大品牌为主。我国是世界最大的芯片应用市场和进口市场，而光刻机是我国实现芯片产业自主化最大的短板，国家02科技 重大专项旨在打破国外垄断，打造拥有自主知识产权的高端光刻机设备，对于我国芯片产业发展具有重大意义。

　　浸液系统背景：浸液系统是浸没式光刻机四大核心部件之一，是光刻机突破干式曝光物理极限向更小技术节点发展的标志性技术。目前，国际上仅荷兰ASML和日本Nikon拥有浸液系统技术，且严格保密，因此，我国必须自主研发。

　　本次入驻的光刻机浸液系统项目拟在青山湖科技城核心区新增用地25亩，总投资5亿元。项目整体规划，一次建成，建设光刻机浸液系统产品研制与中试基地。与前期入驻的中电海康磁旋存储芯片项目毗邻而建，在科技城形成关键设备制造、芯片研发生产两大集成电路产业项目龙头。目前，该项目已拥有发明专利60余项；研发团队中，现有人员100余人，包括海外归来人员5人，青年千人计划等专家2人，博士12人；计划新增人员120人，包括海外归来人员5人，千人及青年千人计划等专家5人，博士15人。