4月9日上午，苏州晶洲装备科技有限公司的生产车间内异常忙碌，5名工作人员正调试检测即将交付使用的“G6AMOLED湿法刻蚀机”，确保客户能获得到最优质的技术、品质与服务。

　　晶洲装备自主研发设计生产的“G6AMOLED湿法刻蚀机”，涵盖了刻蚀与精密清洗单元 结 构， 主 要 应 用 于 G6AMOLED平板显示制程的阵列（Array） 段，是刻蚀工艺的核心载体设备。公司还率先研制了极紫外表面改性系统、刻蚀药液溶度控制系统、高速药液置换系统等，并将其应用于“G6AMOLED湿法刻蚀机”，实现刻蚀过程的高度均匀性及稳定性。“该项目共形成知识产权21项，其中，获得授权发明专利2项，实用新型专利13项。”苏州晶洲装备科技有限公司运营总监薛晶介绍说。

　　晶洲装备于2011年入驻辛庄镇光伏产业园，是一家集研发、制造、销售、服务于一体的综合性高新技术企业，产品线主要围绕平板显示、光伏、半导体等行业的高精密清洗、湿法刻蚀、湿法剥离、湿法显影等高端湿制程设备，并同步衍生相配套的环保及智能化技术等。

　　AMOLED是目前平板显示领域最前沿的技术，但其关键生产设备、原材料供应商几乎被日、韩、美完全垄断，国产设备仅在非核心的自动化和检测设备方面占据部分份额。“核心设备国产化率低严重制约了我们从显示制造大国向显示制造强国的产业升级之路。”薛晶说，近年来，晶洲装备坚持走产学研结合之路，与复旦大学、苏州大学、上海化工研究院等科研院所保持紧密合作，经过多年的技术积累，不断攻克难题，成为国内首家G6AMOLED专用湿法设备的供应商，在填补国内空白的同时，打破了国外进口设备的垄断局面，并且在结构设计、功能实现上与进口设备媲美。

　　“环保及资源化的循环利用是公司今后关注的重点，我们要走出一条‘既要金山银山，又要绿水青山’可持续发展之路。”薛晶告诉记者，当前，中国废酸年产生量超2亿吨，资源化处理迫在眉睫。目前，经过与复旦大学学术攻关，已经在资源化循环利用技术上有了重大突破，可为平板显示、光伏、半导体等行业提供湿制程清洗废酸处理及循环利用综合解决方案，有效降低洗酸类化学品的使用量，减少企业的废酸排放，进而大大缓解行业环保压力，降低制造成本。